| 品牌 | 方达 |
|---|---|
| 型号 | YM-36A |
液压密封环双面研磨机特点：
1.本系列抛光机的吸附盘由四台单独的电机驱动、速度与压力可调。
2.控制系统中采用PLC彩色终端等先进技术，系统的响应速度更快、更**，并具有远程监控，远程维护的功能；
3.本系列抛光机运行平稳，抛光后的产品厚度公差可控制在正负0.002mm范围内，粗糙度可达到0.0005mm。
液压密封环双面研磨机工作原理：
本系列硅片抛光机由四个吸附盘吸附硅片与抛光盘做逆时针旋转来达到抛光的目的。
液压密封环双面研磨机设备规格：
型号 | YM-18A | YM-24A | YM-36A | YM-48A |
抛光盘规格 | φ460*φ140 | φ610*φ200 | φ910*φ300 | φ1220*φ400 |
**大抛光尺寸 | φ150mm | φ200mm | φ300mm | φ450mm |
抛光后平面度 | ±0.5u以内 | ±0.7u以内 | ±1u以内 | ±1u以内 |
工件平行度（25mm） | ±1u以内 | ±1.5u以内 | ±2u以内 | ±2u以内 |
工件粗糙度 | 0.4nm以内 | 0.4nm以内 | 0.4nm以内 | 0.4nm以内 |
抛光盘电机功率 | 2.2kw 3相380V | 3.7kw 3相380V | 7.7kw 3相380V | 11kw 3相380V |
抛光盘转速 | 0~120rpm | 0~100rpm | 0~80rpm | 0~60rpm |
外形尺寸 | 700*1100*1100mm | 950*1200*2200mm | 1200*1400*2300mm | 1500*1700*2400mm |
重量 | 960kg | 1800kg | 2600kg | 4500kg |
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液压密封环双面研磨机主要用途：
该机主要适用用各种大尺寸硅片及晶体材料的抛光。
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